2021年中國真空設備行業市場專項研究及市場應用前景分析預測
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1、真空技術、真空設備、真空獲得設備、真空應用設備：
（1）真空技術：真空技術是建立低于大氣壓力的物理環境，以及在此環境中進行工藝制作、物理測量和科學試驗等所需的技術。真空技術主要包括真空獲得、真空測量、真空檢漏和真空應用四個方面。
真空度的劃分范圍分析
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（2）真空設備：真空設備一般包括真空獲得設備、真空測量設備、真空檢漏設備和真空應用設備。
真空設備分類分析
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（3）真空獲得設備：
①真空獲得設備的概念和分類：真空獲得設備，即獲得、改善和（或）維持真空環境的裝置，主要指真空泵。按照工作原理的不同，真空泵分為氣體傳輸泵和捕集泵兩大類，其中氣體傳輸泵的市場規模占比約為65%。
據中金企信國際咨詢公布的《2021-2027年中國真空設備市場運行格局及投資戰略研究報告》統計數據顯示：氣體傳輸泵主要包括變容真空泵和動量真空泵兩類。其中，變容真空泵的工作原理是泵腔充滿氣體，其入口被周期性的隔離，然后將氣體輸送到出口，氣體排出前一般被壓縮。變容真空泵主要包括往復式真空泵和旋轉式真空泵兩類。
動量真空泵的工作原理是將動量傳遞給氣體分子，使氣體由入口不斷地輸送到出口。動量真空泵主要包括牽引式真空泵、流體攜帶泵、離子傳輸泵三類。捕集泵是指氣體分子被吸附或冷凝而保留在泵內表面上的一種真空泵，主要包括吸附泵、吸氣劑泵、升華（蒸發）泵、吸氣劑離子泵、低溫泵等類型。
②氣體傳輸泵：干式真空泵（羅茨干泵、渦旋干泵）是氣體傳輸泵-變容
真空泵的一種。按照運動部件密封方式不同，氣體傳輸泵-變容真空泵可分為油
封（液封）真空泵、干式真空泵兩類，具體差異如下：
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按照工作原理不同，氣體傳輸泵-變容真空泵主要分為往復式真空泵、旋轉式真空泵兩大類。氣體傳輸泵-動量真空泵主要分為牽引式真空泵、流體攜帶泵、離子傳輸泵等三類。不同類型的氣體傳輸泵，其主要工作的真空度范圍不同。氣體傳輸泵的具體分類如下表所示：
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（4）真空應用設備：真空應用設備種類繁多，廣泛應用于薄膜、納米科學與技術、電子材料與器件、顯示技術、質譜與檢漏、真空冶金及表面工程等眾多專業領域。真空應用設備主要包括大科學裝置、真空薄膜儀器設備、新材料制備設備三大類。
①大科學裝置：重大科技基礎設施，是指通過較大規模投入和工程建設來完成，建成后通過長期的穩定運行和持續的科學技術活動，實現重要科學技術目標的大型設施。其科學技術目標必須面向國際科學技術前沿，為國家經濟建設、國防建設和社會發展做出戰略性、基礎性和前瞻性貢獻。
相較于一般的基礎設施建設和科學儀器裝備，重大科技基礎設施具有以下特點：①科學技術意義重大，影響面廣且長遠，建設規模和耗資大，建設時間長；②技術綜合、復雜，需要在工程中研制大量非標設備，具有工程與研制的雙重性；③為保證國家科技水平長期發展，國產設備使用率高；④其產出是科學知識和技術成果，而不是直接的經濟效益，建成后要通過長時間穩定的運行、不斷的發展和持續的科學活動才能實現預定的科學技術目標；⑤從立項、建設到利用的全過程，都表現出很強的開放性和國際化特色。
按照使用目的的不同，重大科技基礎設施可分為三類：專用研究設施、公共實驗設施和公益科技設施。按科學領域不同，重大科技基礎設施主要涵蓋能源、生命、地球系統與環境、材料、粒子物理和核物理、空間和天文、工程技術等七個領域。截至目前，我國批準立項、在建、運行的國家重大科技基礎設施超過50項。
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②真空薄膜儀器設備：真空薄膜儀器設備主要包括PVD設備和CVD設備。據中金企信國際咨詢公布的《2021-2027年中國真空薄膜儀器設備市場競爭格局分析及投資戰略研究可行性報告》統計數據顯示：真空鍍膜，指在真空條件下利用某種方法，在固體表面上鍍一層與基體材料不同的薄膜材料，也可以利用固體本身生成一層與基體不同的薄膜材料。PVD（物理氣相沉積），是指在真空條件下，利用蒸發、濺射之類的物理方法形成氣態的原子、分子或離子，然后通過氣相傳輸步驟，在適當溫度的襯底上凝聚形成所需要的薄膜或涂層的過程。按鍍層材料形成機理不同，PVD可分為真空蒸發鍍、濺射鍍和離子鍍等。PVD技術廣泛應用于航空航天、電子、光學、機械、建筑、輕工、冶金、材料等領域，可制備具有耐磨、耐腐飾、裝飾、導電、絕緣、光導、壓電、磁性、潤滑、超導等特性的膜層。
CVD（化學氣相沉積），是把一種或幾種含有構成薄膜元素的化合物、單質氣體通入放置有基片的反應室，借助氣相作用或在基片上的化學反應生成所希望的薄膜。化學氣相沉積可分為等離子體增強化學氣相沉積（PECVD）、金屬有機化合物化學氣相沉積技術（MOCVD）、激光化學氣相沉積（LCVD）、低壓化學氣相沉積（LPCVD）等。目前，CVD技術應用于刀具材料、耐磨耐熱耐腐蝕材料、宇航工業的特殊復合材料、原子反應堆材料及生物醫用材料等領域，而且被廣泛應用于制備與合成各種粉體材料、塊體材料、新晶體材料、陶瓷纖維及金剛石薄膜等。在作為大規模集成電路技術需要的鐵電材料、絕緣材料、磁性材料、光電子材料的薄膜制備技術方面不可或缺。
③新材料制備設備：新材料制備設備主要包括晶體材料制備設備及真空冶金設備。晶體生長，是指物質在一定溫度、壓力、濃度、介質、ph等條件下由氣相、液相、固相轉化，形成特定線度尺寸晶體的過程。晶體材料制備設備，一般指在真空狀態和惰性氣體的保護下將晶體原料加熱融化，并通過直拉、區熔等特定方法生長晶體的專用設備。
真空冶金，指在低于大氣壓的氣壓之下開展的冶金作業。真空冶金技術一般用于金屬的熔煉、精煉、澆鑄和熱處理等。真空冶金設備主要用于稀有金屬、貴金屬以及難熔金屬的熔煉、提純以及回收重熔，還可用于制取半導體材料和難熔金屬及其合金的單晶等。