2020年中國貴金屬靶材市場運行格局及投資戰略研究?
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????鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
????貴金屬靶材是指采用精煉、熔化鍛造、壓延加工或粉未冶金工藝制造的半導體器件、記錄媒體顯示器件等的配線和薄膜的貴金屬及其合金的濺射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用于集成電路和大規模集成電路，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用于磁記錄。
????貴金屬靶材的主要配套領域有冶煉、通信、網絡、IT、醫療、家電等，配套領域產品技術水平的快速發展及其市場的快速增長，強有力地牽引著靶材技術的發展。到目前為止，貴金屬靶材已發展成為產品種類齊全、品種規格豐富、結構型式多樣、專業方向細分、行業特征明顯、標準體系規范的系列化和專業化的產品。據中金企信國際咨詢公布的《2020-2026年中國貴金屬靶材行業調研分析及投資戰略預測評估報告》統計數據顯示：2016年全球靶材市場銷售額達60億美元，靶材消耗量達到170萬片并以8.4％的年平均增長率增長。
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