2020年中外掩膜版市場供需結構分析及重點企業(yè)市場占有率

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掩膜版（Photomask）又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產品制造過程中的圖形“底片”，是承載圖形設計和工藝技術等知識產權信息的載體。在光刻過程中，掩膜版是設計圖形的載體。通過光刻，將掩膜版上的設計圖形轉移到光刻膠上，再經過刻蝕，將圖形刻到襯底上，從而實現圖形到硅片的轉移。掩膜版是光刻過程中的重要部件，其性能的好壞對光刻有著重要影響。

掩膜版工作原理

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掩膜版結構：掩膜版根據其材質根據需求不同，可選擇不同的玻璃基板。目前隨著工藝技術的精進，以具有低熱膨脹系數、低鈉含量、高化學穩(wěn)定性及高光穿透性等特質的石英玻璃為主流，在其上鍍有約100nm的不透光鉻膜作為I作層及約20nm的氧化鉻來減少光反射，增加工藝的穩(wěn)定性。

掩模板之所以可作為圖形轉移的一種模板，關鍵就在于有無鉻膜的存在，有鉻膜的地方，光線不能穿透，反之，則光可透過石英玻璃而照射在涂有光刻膠的晶片上，晶片再經過顯影，就能產生不同的圖形。也正是由于掩模板可用于大量的圖形轉移，所以掩模板上的缺陷密度將直接影響產品的優(yōu)品率。

掩膜版市場情況：據中金企信國際咨詢公布的《2020-2026年中國中外掩膜版行業(yè)市場發(fā)展分析及投資戰(zhàn)略前景預測報告》統(tǒng)計數據顯示：2018年全球半導體掩模版銷售額為35.7億美元，占到總晶圓制造材料市場的13%。預計全球半導體掩模版市場可在2020年達到40億美元。

從生產商來看，目前全球掩膜版生產商主要集中在日本和美國的幾個巨頭，包括日本凸版印刷TOPAN、日本大印刷，美國Photronics，日本豪雅HOYA，日本SK電子等。其中，Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據全球掩膜版領域80%以上市場份額。此外，晶圓制造廠也會采取自制方式對內提供掩膜版，如英特爾、臺積電、三星等都有自制掩膜版業(yè)務。

2018年全球掩膜板主要生產商市場規(guī)模比重分析

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數據統(tǒng)計：中金企信國際咨詢

從國內來看，目前國內掩膜版制造商主要有路維光電和清溢光電，中科院微電子所、中國電子科技集團等科研院所內部也有自制掩膜版。國內晶圓代工廠龍頭中芯國際也有自制掩膜版業(yè)務。國內光掩膜版市場規(guī)模保持穩(wěn)定增長，2016年國內市場規(guī)模為59.5億元，規(guī)模較上年同期增長4.94%。

國內掩膜版供需缺口逐年擴大。2011年國內掩膜版需求5.09萬平方米，國內掩膜版產量0.87萬平方米，凈進口量4.22萬平方米，2016年國內掩膜版需求7.98萬平方米，國內掩膜版產量1.69萬平方米，供需缺口達6.29萬平方米。

目前,中國大陸的平板顯示行業(yè)處于快速發(fā)展期，對掩膜版行業(yè)的需求持續(xù)增加。中國大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量占全球比重，從2011年的5%上升到2017年的32%。未來隨著相關產業(yè)進一步向國內轉移，國內平板顯示行業(yè)掩膜版的需求量將持續(xù)上升，預計到2021年，中國大陸平板顯示行業(yè)掩膜版需求量全球占比將達到56%。