2020年濺射靶材行業競爭格局及發展現狀剖析

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濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材，特別是高純度濺射靶材應用于電子元器件制造的物理氣相沉積（PVD）工藝，是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關鍵材料。真空狀態下，用加速的離子轟擊固體表面，離子和固體表面原子交換動量，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面形成所需要的薄膜，這一過程稱為濺射。被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的源材料，通常稱為靶材。??靶材產業鏈：濺射靶材產業鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應用等環節。其中，靶材制造和濺射鍍膜位于中游，是整個濺射靶材產業鏈中的關鍵環節。

?濺射工藝是制備電子薄膜的主要技術之一，它利用離子源產生的離子，在高真空中經過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。主要應用場景包括超大規模集成電路制造等。靶材產業鏈主要分金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜、終端應用四個環節。其中濺射鍍膜是整個產業鏈中技術要求最高的環節。濺射薄膜的品質對下游產品的質量具有重要影響。利用離子源產生的離子轟擊固體表面，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體稱為濺射靶材,?是集成電路制造過程中的關鍵材料，根據應用領域，分為半導體靶材、面板靶材、光伏靶材等。高純濺射靶材制造環節技術門檻高、設備投資大，在濺射靶材產業鏈各環節的企業數量呈現金字塔型分布，半導體濺射靶材行業集中度很高，前五大廠商占比超過80%。具有規模化生產能力的企業數量相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區。??濺射靶材是目前市場應用量最大的PVD鍍膜材料，下游應用領域廣泛，如平板顯示器、半導體、太陽能電池、光磁記錄媒體、光學元器件等。20世紀90年代以來，隨著消費類電子產品等終端應用市場的快速發展，濺射靶材的市場規模日益擴大，呈現高速增長的勢頭。根據中國電子材料行業協會數據，2016年全球濺射靶材市場規模約為113.6億美元，其中平板顯示（含觸控屏）用靶材為38.1億美元、半導體用靶材11.9億美元、太陽能電池用靶材23.4億美元、記錄媒體靶材33.5億美元。據中金企信國際咨詢公布的《2020-2026年中國濺射靶材市場供需發展前景及投資戰略預測報告》統計數據顯示：到2019年，全球濺射靶材市場規模將超過163億美元，年復合增長率達13%。?目前，國內靶材企業發展重點集中在低端產品領域，在半導體、平板顯示器和太陽能電池等市場無法與國際巨頭充分競爭，而是依靠巨大的國內市場潛力和有利的產業政策，以及產品價格優勢，占據國內市場的一定市場份額，逐步搶占個別細分地區一些國際大型工廠的市場空間。近年來，我國政府制定了863計劃、02專項基金等一系列產業政策，以加快靶材供應的本土化進程，推動國內靶材實現多種應用領域的跨越。這些都從國家戰略的高度支持和促進飛濺靶材產業的發展。?近年來半導體市場穩步發展，2018年全球半導體材料銷售額519億美元，其中晶圓制造材料銷售322億美元，封裝材料銷售197億美元，總銷售額同比增長10.65%，增速較2017年繼續增加。數據顯示，濺射靶材市場約占晶圓制造材料的2.6%，約占封裝材料的2.7%，2018年全球半導體用靶材市場規模約13.69億美元。2019年全球半導體材料市場將增長2%，則2019年全球半導體用靶材市場規模約在13.96億美元，中國半導體用靶材市場規模約在19.87億元。隨著產能向國內轉移，靶材需求規模有望進入長期增長。預計2020年國內FPD靶材市場將達到150億元，2022年達到206.5億元。

?終端應用領域的不斷擴展和快速發展，強勁的消費需求有利于驅動濺射靶材市場不斷擴容，促進技術進步和產業成熟。隨著全球半導體、平板顯示、光學元器件、太陽能電池等行業生產規模持續擴張，我國進一步強化作為全球的電子信息、家用電器、太陽能電池及組件等產業的重要制造基地的地位，并直接帶動了濺射靶材行業的發展，給國內濺射靶材廠商帶來良好的發展機遇。此外，隨著濺射鍍膜技術的不斷進步以及生產成本的降低，濺射靶材應用領域將不斷擴大，繼而進一步帶動濺射靶材的市場需求。